本文主要介紹了常見的三種工業(yè)化生產(chǎn)六氟乙烷的方法，并介紹了對(duì)其提純的幾種處理方式，為制備高純六氟乙烷提供了參考。

六氟乙烷在半導(dǎo)體與微電子工業(yè)中用作等離子蝕刻氣體、器件表面清洗劑，還可用于光纖生產(chǎn)與低溫制冷。因其具有無毒無臭、高穩(wěn)定性而被廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造過程中，例如作為蝕刻劑、化學(xué)氣相沉積(CVD)后的清洗氣體，在等離子工藝中作為二氧化硅和磷硅玻璃的干蝕氣體。

六氟乙烷化學(xué)式C2F6，純度>99.7%，為無色、無臭、無味、不可燃的惰性氣體。微溶于水，熔點(diǎn)-100.6℃，沸點(diǎn)-78℃，液體密度1.60g/ml。以碳型材料直接氟化并經(jīng)低溫精餾分離純化可制得純度大于99.7%的產(chǎn)品。六氟乙烷在微電子工業(yè)中用于等離子蝕刻及表面清洗。六氟乙烷一直是Kanto Denak公司和另兩家日本公司的樣品。Kanto Denka Kogyo公司計(jì)劃在下一財(cái)政年度大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)六氟乙烷，該產(chǎn)品作為下一代清潔氣體用于高集程度的半導(dǎo)體生產(chǎn)。