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那諾-馬斯特中國(guó)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品：薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等

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    那諾-馬斯特中國(guó)有限公司

  • 手機(jī)：17317363700
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  • 郵箱：moses.zhang@nano-china.com
  • 網(wǎng)址：http://m.is0513.com/ShowSupplierProductsList184513/0.htm
  • 產(chǎn)品總數(shù)：36
  • CB指數(shù)：58
  • 國(guó)籍：中國(guó)
  •       那諾-馬斯特中國(guó)有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國(guó)大陸，香港，臺(tái)灣和澳門(mén))的客戶，同時(shí)我們?cè)谥袊?guó)大陸設(shè)有專門(mén)的服務(wù)辦公室，提供銷(xiāo)售和售后技術(shù)服務(wù)。 那諾-馬斯特中國(guó)的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國(guó)，該公司是法國(guó)那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國(guó)所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國(guó)際領(lǐng)先的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開(kāi)始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國(guó)并正式更名。 自2001年Nano-Master開(kāi)始設(shè)計(jì)開(kāi)發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類(lèi)金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國(guó)家的大學(xué)、研發(fā)中心和國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。 我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)
英文名稱 中文名稱 CAS號(hào) 操作
SWC-3000 Megasonic Assisted Photoresist Stripping System SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng) 詳細(xì)
Wafer cleaning equipment SWC-4000 Megasonic wafer (mask) cleaning machine 晶圓清洗設(shè)備 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī) 詳細(xì)
NA 臺(tái)階儀 KLA 探針式表面輪廓儀 P-7（臺(tái)階儀） 詳細(xì)
NRE-4000 RIE-PE Etching Machine NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī) 詳細(xì)
NRE-4000(A) fully automatic reactive ion etching NRE-4000（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕 詳細(xì)
SWC-5000 Fully Automatic Megasonic Wafer Cleaning Machine SWC-5000全自動(dòng)兆聲晶圓清洗機(jī) 詳細(xì)
Metal Organic Chemical Vapor Deposition System MOVPE Equipment 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備 詳細(xì)
Etching equipment NRE-3500(A) fully automatic reactive ion etcher Nano-Master 刻蝕設(shè)備 NRE-3500（A）全自動(dòng)反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 那諾-馬斯特 詳細(xì)
Ion Beam Etcher NIE-4000(A) Fully Automatic IBE Ion Beam Etcher Nano-Master 離子束刻蝕機(jī) NIE-4000（A）全自動(dòng)IBE離子束刻蝕 那諾-馬斯特 詳細(xì)
NA Alpha-Step D-500 探針式輪廓儀/臺(tái)階儀 詳細(xì)
Optical Profiler 美國(guó) 光學(xué)輪廓儀 Zeta-300 多模式三維光學(xué)輪廓儀 詳細(xì)
LSC-5000 Fully Automatic Megasound Large Substrate Wet Stripping System LSC-5000全自動(dòng)兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng) 詳細(xì)
NSC-4000(A) fully automatic magnetron sputtering system NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng) 詳細(xì)
ALD atomic layer deposition NLD-3000 atomic layer deposition system ald原子層沉積 NLD-3000原子層沉積系統(tǒng) 詳細(xì)
NRE-3500(M) Reactive Ion Etcher NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機(jī) 詳細(xì)
SWC-4000 Megasonic Wafer (Mask) Cleaning Machine SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī) 詳細(xì)
NLD-4000(A) fully automatic atomic layer deposition system NLD-4000（A）全自動(dòng)原子層沉積系統(tǒng) 詳細(xì)
Magnetron Sputtering Machine NSC-4000SPUTTER Magnetron Sputtering Coating Machine Nano-Master 磁控濺射儀 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī) 那諾-馬斯特 詳細(xì)
NA KLA光學(xué)輪廓儀 Profilm 3D 白光干涉儀 詳細(xì)
LSC-4000 Megasonic Substrate Wet Degumming and Cleaning System LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng) 詳細(xì)
NDR-4000(A) Fully Automatic DRIE Deep Reactive Ion Etching NDR-4000（A）全自動(dòng)DRIE深反應(yīng)離子刻蝕 詳細(xì)
NPE-4000(A) fully automatic PECVD plasma chemical vapor deposition system NPE-4000（A）全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 詳細(xì)
Magnetron sputtering coating machine NSC-3500(M)Magnetron sputtering system for laboratory research and development 磁控濺射鍍膜機(jī) NSC-3500（M）實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用磁控濺射系統(tǒng) 詳細(xì)
NIE-4000(M)IBE Ion Beam Etching NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕 詳細(xì)
NPD-4000(A) fully automatic PLD pulse laser deposition system NPD-4000（A）全自動(dòng)PLD脈沖激光沉積系統(tǒng) 詳細(xì)
NTE-3500(A) Fully automatic thermal evaporation system NTE-3500（A）全自動(dòng)熱蒸發(fā)系統(tǒng) 詳細(xì)
Optical coating 進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī) 詳細(xì)
NPC-4000(A) fully automatic plasma stripping machine (etching machine) NPC-4000（A）全自動(dòng)等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)） 詳細(xì)
NMC-4000(A) fully automatic PAMOCVD system NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng) 詳細(xì)
PECVD equipment microwave plasma chemical vapor deposition system PECVD設(shè)備 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 詳細(xì)
Spin Coater 勻膠機(jī)/旋涂?jī)x 詳細(xì)
NA KLA-D600 高精度探針式輪廓儀/臺(tái)階儀 Alpha-Step D-600 詳細(xì)
NSC-3500(A) fully automatic magnetron sputtering system NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng) 詳細(xì)
NIM-4000(A) fully automatic ion milling and etching NIM-4000（A）全自動(dòng)離子銑刻蝕 詳細(xì)
NIE-3500(A) fully automatic ion beam cleaning system NIE-3500（A）全自動(dòng)離子束清洗系統(tǒng) 詳細(xì)
NEE-4000(A) Fully Automatic Electron Beam Evaporation System NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng) 詳細(xì)
產(chǎn)品總數(shù)：36 產(chǎn)品頁(yè)碼：
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商家暫時(shí)不對(duì)外公布