NLD-4000（A）全自動原子層沉積系統(tǒng)

價格	詢價
包裝	1臺

最小起訂量	1臺
發(fā)貨地	上海
更新日期	2025-01-03

QQ交談

產品詳情

中文名稱:NLD-4000（A）全自動原子層沉積系統(tǒng)

產品類別: 生長系統(tǒng) ALD原子層沉積系統(tǒng)

NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現(xiàn)到大基片上。

NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)特點：NLD-4000（A）是一款全自動獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶授權保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設計，并提供了強大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等）。應用領域包含半導體、光伏、MEMS等。NLD-4000（A）系統(tǒng)提供12”的鋁質反應腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達7個50ml的加熱汽缸，用于前驅體以及反應物，同時帶有N2或者Ar作為運載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-4000(A)選配：NLD-4000（A）系統(tǒng)的選配項包含，ICP離子源(用于等離子增強的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-4000(A)應用：

Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3，etc
Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..
Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應用.
Nano laminates納米復合材料

關鍵字： ALD;進口ALD;進口全自動ALD;進口全自動原子層沉積;進口沉積設備;進口ALD報價;

公司簡介

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室，提供銷售和售后技術服務。那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發(fā)展成為全球薄膜設備的供應商，已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務

成立日期	2015-04-17 （10年）	注冊資本	100萬人民幣
員工人數(shù)	1-10人	年營業(yè)額	￥ 1000萬-5000萬
主營行業(yè)	其他儀器耗材	經營模式	定制

那諾-馬斯特中國有限公司

非會員

公司成立：10年
注冊資本：100萬人民幣
企業(yè)類型：私人股份有限公司
主營產品：薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等
公司地址：徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號

進入店鋪

詢盤

店內推薦

NPE-4000（A）全自動PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)

詢價

NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統(tǒng)

詢價

ald原子層沉積 NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)

詢價