產(chǎn)品描述
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀是一款非接觸式3D顯微鏡及表面形貌測量系統(tǒng)。該 3D 光學(xué)量測系統(tǒng)由已獲得專利的 ZDot 技術(shù)及多模式光學(xué)組件提供支持，可支持各種樣品測量：透明和不透明、低反射率和高反射率、光滑表面和粗糙紋理，以及從納米到厘米范圍的臺階高度。
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀集六種不同的光學(xué)量測技術(shù)于一身，是一款可靈活配置且易于使用的系統(tǒng)。ZDot測量模式同時收集高分辨率的3D掃描信息和樣品表面真彩色圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量法、諾馬斯基光干涉對比顯微法和剪切干涉測量法，膜厚測量包含使用ZDot模式測量和光譜反射的測量方法。Zeta-20 也是一款高端顯微鏡，可用于抽樣檢查或缺陷的自動檢測。Zeta-20通過提供全面的臺階高度、粗糙度及薄膜厚度測量以及缺陷檢測功能來支持研發(fā) (R&D) 和生產(chǎn)環(huán)境。
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀特征優(yōu)勢
配合ZDot及多模式光學(xué)組件，光學(xué)輪廓儀可以容易地實現(xiàn)各種各樣的應(yīng)用
用于抽樣檢查和缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡
ZDot: 同時收集高分辨率的3D掃描掃描信息和樣品表面真彩色圖像
ZXI：采用z方向高分辨率的廣域測量白光干涉儀 ZIC：亞納米級粗糙度表面的定量3D數(shù)據(jù)的干涉對比
ZIC：圖像對比度增強(qiáng)，可實現(xiàn)亞納米級粗糙度表面的定量分析
ZSI：z方向高分辨率
圖像的剪切干涉測量法
ZFT：通過集成式寬頻反射測量法測量薄膜厚度和反射率
AOI：自動光學(xué)檢測，可量化樣品缺陷
生產(chǎn)能力：具有多點(diǎn)量測和圖形識別功能的全自動測量
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀應(yīng)用功能
臺階高度：從納米級到毫米級的3D 臺階高度
表面：光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波紋度測試
翹曲：2D或3D翹曲
應(yīng)力：2D 或3D 薄膜應(yīng)力
薄膜厚度：透明薄膜厚度由 30nm 至 100μm 不等
缺陷檢測：捕獲大于 1μm 的缺陷
缺陷表征：KLARF文件可用于尋找缺陷，以確定劃痕缺陷位置，測量缺陷3D表面形貌
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀應(yīng)用領(lǐng)域
太陽能：光伏太陽能電池
半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體
半導(dǎo)體WLCSP（晶圓級芯片封裝）
半導(dǎo)體FOWLP（扇出晶圓級封裝）
PCB（印刷電路板）和柔性印刷電路板
MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)
醫(yī)療器械和微流體器件
數(shù)據(jù)存儲
大學(xué)、研究實驗室和研究所
Zeta-20臺式光學(xué)輪廓儀應(yīng)用案例
肖特玻璃-表面粗糙度
可用來測試玻璃等透明表面及不透明表面的形貌和表面粗糙度
太陽能電池–不同反射率表面形貌測量
輕松獲得復(fù)雜差異化反射率樣品的表面形貌
MEMS器件–臺階高度和粗糙度
小尺寸樣品nm級臺階精度，大尺寸樣品的亞微米臺階精度
鏡頭-完整的表面輪廓
圖像拼接功能，可獲得大面積樣品的完整表面輪廓
高分子薄膜-膜厚測量
可用于PI和PR薄膜的厚度測量，并可生成整片晶圓上的膜厚mapping
藍(lán)寶石-圖案化晶片表面缺陷
可對特定缺陷進(jìn)行三維輪廓掃描并進(jìn)行相關(guān)測量，并對晶圓表面缺陷按尺寸、亮度、長寬比等進(jìn)行分布統(tǒng)計并生成mapping
關(guān)鍵字： 光學(xué)輪廓儀 ;高精度光學(xué)輪廓儀;3D光學(xué)輪廓儀;白光干涉儀;三維光學(xué)輪廓儀;
那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。
那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領(lǐng)先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。
自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實驗室。
我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)