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PECVD設備 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
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PECVD設備 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)

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發(fā)貨地 上海
更新日期 2025-01-21

產品詳情

中文名稱:PECVD設備 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)產品類別: 沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學氣相沉積系統(tǒng)
2025-01-21 PECVD設備 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng) 1臺/RMB 沉積系統(tǒng) PECVD等離子化學氣相沉積系統(tǒng)


微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)概述:NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜,至大可達6” 直徑的基片上,該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產生等離子,具有分形氣流分布的優(yōu)勢,樣品臺可以通過RF或脈沖DC產生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機械泵,腔體可以達到低至10-7 torr的真空。

  • 標準配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個MFC

  • 帶有氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求,無論是等離子強度、均勻度,還是要分別激活某些活性組份

  • 系統(tǒng)可以覆蓋z廣的可能性來獲得各種沉積參數。


微波PECVD.png



微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)應用:

  1. 等離子誘導表面改性:就是通常所說的用等離子實現表面改性(如親水性、疏水性等)

  2. 等離子清洗:去除有機污染物

  3. 等離子聚合:對材料表面產生聚合反應

  4. 沉積二氧化硅、氮化硅、DLC(類金剛石),以及其它薄膜

  5. CNT(碳納米管)和石墨烯的選擇性生長:在需要的位置生長CNT或石墨烯。


微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)特點:

  • 立式系統(tǒng)

  • 自動上下載片,帶預真空鎖

  • 不銹鋼或鋁制腔體

  • 極限真空可達10-7Torr

  • RF淋浴頭,HCD或微波等離子源

  • 高達6”(150mm)直徑的樣品臺

  • RF射頻偏壓樣品臺

  • 水冷樣品臺

  • 可加熱到的800 °C樣品臺

  • 加熱的氣體管路

  • 加熱的液體傳送單元

  • 抗腐蝕的渦輪分子泵組

  • z大可支持到8MFC

  • 基于LabView軟件的PC計算機全自動控制

  • 菜單驅動,4級密碼訪問保護

  • 完整的安全聯鎖


關鍵字: PECVD設備 微波等離子化學氣相沉積系;化學氣相沉積系統(tǒng);等離子化學氣相沉積;進口等離子體PECVD;等離子化學氣相沉積;微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng);

公司簡介

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月,是服務大中華區(qū)(包含中國大陸,香港,臺灣和澳門)的客戶,同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室,提供銷售和售后技術服務。 那諾-馬斯特中國的主要產品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國,該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司,是一家國際領先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。 自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備,正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD,用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD,濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺),熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā),離子束刻蝕和反應離子刻蝕,原子層沉積,兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內Nano-Master已經發(fā)展成為全球薄膜設備的供應商,已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。 我們聘用技術熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務
成立日期 2015-04-17 (10年) 注冊資本 100萬人民幣
員工人數 1-10人 年營業(yè)額 ¥ 1000萬-5000萬
主營行業(yè) 其他儀器耗材 經營模式 定制
  • 那諾-馬斯特中國有限公司
非會員
  • 公司成立:10年
  • 注冊資本:100萬人民幣
  • 企業(yè)類型:私人股份有限公司
  • 主營產品:薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等
  • 公司地址:徐匯區(qū)虹梅南路126弄翡翠別墅23號
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內容聲明:
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