名稱：四甲基氫氧化銨(TMAH)，英文名稱為Tetramethylammonium hydroxide

性能：本產(chǎn)品為有機(jī)硅聚合中的催化劑

優(yōu)點(diǎn)：它具有強(qiáng)堿性，在不超過(guò)分解點(diǎn)的溫度下穩(wěn)定。超過(guò)分解點(diǎn)時(shí)迅速分解為三甲胺和甲醇。當(dāng)催化完畢后很容易除掉，不留任何殘?jiān)?duì)有機(jī)硅產(chǎn)品無(wú)污染。因此又稱為“暫時(shí)催化劑”。

應(yīng)用：四甲基氫氧化銨，分子式為C4H13NO，有一定的氨氣味，具有強(qiáng)堿性，在有機(jī)硅方面，作為二甲基硅油，苯甲基硅油，有機(jī)硅擴(kuò)散泵油，無(wú)溶劑有硅模塑料，有機(jī)硅樹(shù)脂硅橡膠等的催化劑。在有機(jī)硅片生產(chǎn)中常用作計(jì)算機(jī)硅片面用光亮劑、清洗劑和觸刻劑等。

TMAH的用途

1、作為集成電路（IC）行業(yè)、液晶顯示器行業(yè)（TFT-LCD）、光電子(LED)行業(yè)的顯影液。

TMAH是一種有機(jī)堿，一方面它和無(wú)機(jī)堿一樣具有強(qiáng)堿性，另一方面它具有其獨(dú)特的特性，即在使用過(guò)程中不會(huì)留下金屬離子，加熱后可以分解成三甲胺氣體和甲醇?xì)怏w且不留任何痕跡，可廣泛應(yīng)用于現(xiàn)代電子行業(yè)。顯影液的主要成分是堿，原來(lái)使用的堿是無(wú)機(jī)堿KOH，隨著科技的進(jìn)步，集成電路的設(shè)計(jì)制造需滿足各種復(fù)雜的工藝條件，對(duì)化學(xué)品雜質(zhì)要求越來(lái)越苛刻。之前用的顯影液是KOH等無(wú)機(jī)堿，顯影后需要用大量的水進(jìn)行沖洗基板，最終還不能保證K+ 能夠徹底沖洗干凈。金屬離子的過(guò)度殘留就無(wú)法滿足一些苛刻的工藝條件，如單個(gè)制造單元中電子元器件的數(shù)量越來(lái)越多，線寬越來(lái)越窄，成為制約電子行業(yè)發(fā)展的一個(gè)不容忽視的瓶頸，而TMAH正好克服了KOH的缺點(diǎn)，無(wú)金屬離子，高溫分解無(wú)殘留。

因此TMAH是目前使用最普遍且性能的顯影液。已取代無(wú)機(jī)堿（KOH、NAOH）廣泛用于集成電路（IC）行業(yè)、液晶顯示器行業(yè)（TFT-LCD）、光電子行業(yè)。

2、清洗劑：PCB等電子行業(yè)清洗劑，TMAH具有良好的清洗效果且無(wú)殘留。

3、工業(yè)用催化劑（相轉(zhuǎn)移催化劑，可以幫助反應(yīng)物從一相轉(zhuǎn)移到能夠發(fā)生反應(yīng)的另一相當(dāng)中，從而加快異相系統(tǒng)反應(yīng)速率的一類催化劑。一般存在相轉(zhuǎn)移催化的反應(yīng)，都存在水溶液和有機(jī)溶劑兩相，離子型反應(yīng)物往往可溶于水相，不溶于有機(jī)相，而有機(jī)底物則可溶于有機(jī)溶劑之中。不存在相轉(zhuǎn)移催化劑時(shí)，兩相相互隔離，幾個(gè)反應(yīng)物無(wú)法接觸，反應(yīng)進(jìn)行得很慢。相轉(zhuǎn)移催化劑的存在，可以與水相中的離子所結(jié)合，并利用自身對(duì)有機(jī)溶劑的親和性，將水相中的反應(yīng)物轉(zhuǎn)移到有機(jī)相中，促使反應(yīng)發(fā)生）。

TMAH作為季銨堿，在有機(jī)硅、橡膠防老劑領(lǐng)域是一種高效催化劑。

TMAH在TFT-LCD行業(yè)的使用原理

? 顯影液分類：正膠顯影液、負(fù)膠顯影液

? 顯影原理：用濃度為2.38%的顯影液水溶液溶解曝光后的光刻膠 ，使曝光過(guò)的光刻膠在比較短的時(shí)間內(nèi)迅速且徹底溶解，留下反差圖形