簡介

目前四乙基氫氧化銨已經(jīng)進入尖端科技領(lǐng)域，如在電路板的印刷和顯微鏡片 的制造業(yè)中，可作為集成電路板的清洗劑和半導體微加工技術(shù)中的Si－SiO2界面的各向異性腐蝕劑。隨著科學技術(shù)的發(fā)展，對四乙基氫氧化銨的需要量日趨增加，對其質(zhì)量要求也更高。國內(nèi)一般是以四乙基氯化銨為原料，采用氧化銀法、離子交換樹脂法、離子膜電解法等方法制備，純度較國外工藝差，很難滿足半導體等高端產(chǎn)業(yè)客戶的需求[1]。

圖1四乙基氫氧化銨的性狀

含量測定

關(guān)于四乙基氫氧化銨的含量檢測分析，國內(nèi)外文獻及標準中均少有報道。以國外某知名高純試劑生產(chǎn)企業(yè)A生產(chǎn)的TEAH為分析對象，針對其生產(chǎn)工藝中使 用了四甲基氫氧化銨（TMAH）與三甲基金剛烷基氫 氧化銨（TMdAH），成功開發(fā)了檢測TEAH中TMAH與TMdAH這兩個典型陽離子雜質(zhì)殘留量的離子色譜法。離子色譜作為液相色譜的一個分支，對于陰陽離子 檢測有很高的靈敏度，在各個行業(yè)均有廣泛的應用，在化工高純試劑分析方面也有諸多文獻報道或標準收載。新建方法靈敏度高，回收率好，適用于TEAH中 TMAH與TMdAH的檢測[2]。

選用Dionex Ion Pac CS17陽離子交換柱，柱效高， 分離能力強，TMAH、TMd AH與6種常規(guī)陽離子之間分 離良好；TMd AH保留強，在8~25 min時間段加入30% 乙腈，TMd AH于22 min即可正常洗脫，峰型良好；抑制器采用外加水方式進行再生，基線平穩(wěn)，噪聲較小。新建的離子色譜-抑制電導法測定TEAH中兩 個典型的陽離子TMAH、TMdAH的含量，條件簡單，操作便捷，靈敏度與準確度高；本方法為高純試劑TEAH的研發(fā)與生產(chǎn)監(jiān)測提供了一種簡便、穩(wěn)定、可靠的新途徑，具有較高的實用價值和應用前景。

參考文獻

[1]丁淑琴. 高純試劑四乙基氫氧化銨中陽離子雜質(zhì)含量測定 [J]. 清洗世界, 2021, 37 (09): 46-47.

[2]劉效艷,王開學. 以四乙基氫氧化銨為模板并通過轉(zhuǎn)晶法合成高硅鋁比的SSZ-13沸石分子篩 [J]. 無機化學學報, 2021, 37 (04): 728-734.