1.將分析純硝酸鈰銨溶解于熱水中，使含量約為15%，濾去不溶物，在濾液中加入密度為0.91的分析純氨
水，至不再有氫氧化鈰沉淀析出：

過(guò)濾后， 用熱水洗滌沉淀數(shù)次， 經(jīng)常攪拌沉淀， 至洗滌水中不含?NO ₃ ^- 。不斷攪拌下向沉淀中加入密度為1.84的硫酸和水的混合物［ 硫酸∶水＝1∶1? （ 體積） ］ ，在水浴上加熱：

當(dāng)氫氧化鈰全部溶解，停止加熱，濾去不溶物，濾液蒸發(fā)濃縮至出現(xiàn)大量結(jié)晶體，然后冷卻，抽濾后用冰水洗滌3～4次，抽干后，攤薄，并于25～30℃下干燥至不粘玻棒，即得分析純結(jié)晶硫酸鈰。

無(wú)水硫酸鈰為黃色結(jié)晶性粉末。加熱脫水，180～200℃成無(wú)水鹽。350℃以上分解，生成硫酸氧鈰。溶于冷水和熱酸，在熱水中分解為堿式鹽。

無(wú)水硫酸鈰用作高純品用于電子工業(yè)，還用作輻射計(jì)量?jī)x的制造。分析化學(xué)上和工業(yè)上用作氧化劑。也用于制防水劑和防霉劑等。

將200g硝酸鈰銨[(NH4)2Ce(NO3)6]溶于1000mL 70～80℃熱水中。溶解完全后過(guò)濾，濾液加入250mL濃氨水進(jìn)行堿解，至氫氧化鈰完全沉淀為止。吸濾，用熱水洗至不含NO3-(用靛藍(lán)檢驗(yàn))，得氫氧化鈰。

將132mL 49％硫酸于攪拌下加入到上述制得的氫氧化鈰中，并在水浴上加熱，反應(yīng)完全，過(guò)濾，濾液在水浴上蒸發(fā)至形成結(jié)晶膜。冷卻，吸濾，結(jié)晶用冷水洗3～4次，然后放在玻璃皿中于25～30℃干燥，得到試劑純硫酸高鈰。

3. 一種電子級(jí)硫酸高鈰的制備方法

3.1 將1份碳酸鈰加入2～5份稀硝酸溶液中，攪拌1～2h后得到硝酸鈰溶液；

3.2 向步驟1得到的硝酸鈰溶液中滴加濃度為1～5mol/L的碳酸銨水溶液直到硝酸鈰溶液的PH為4.0～4.5為止，然后再將硝酸鈰溶液加熱至90～95℃，保溫90～150分鐘，直到硝酸鈰溶液的質(zhì)量濃度為220～240g/L為止；

3.3 過(guò)濾將步驟2中得到的混合液通過(guò)1000目篩子過(guò)濾得到濾液；

3.4 將步驟3得到的濾液加入到微孔過(guò)濾器中過(guò)濾后得到濾液；

3.5 向步驟4得到的濾液中分別加入體積濃度為30％的雙氧水，再向?yàn)V液中滴加氨水溶液，直到濾液的PH為6.0～7.0為止，控制反應(yīng)溫度在30～35℃，攪拌2～10分鐘后，再升溫90℃～95℃保溫30min；

3.6 向盛裝步驟5的混合液的容器中加人適量純水洗滌1～5次、并將所有沖洗液加入到板框過(guò)到沉淀物；

3.7 將氫氧化鈰濾餅加入過(guò)量濃硫酸中溶解；

3.8 向溶液中加濃硫酸，濃縮反應(yīng)5小時(shí)后過(guò)濾得到硫酸高鈰晶體；

3.9 將硫酸高鈰晶體脫水后得到電子級(jí)硫酸高鈰。

此法過(guò)濾時(shí)間短，產(chǎn)率高；產(chǎn)品氧化率高；產(chǎn)物純度高；產(chǎn)物細(xì)度高，產(chǎn)物非稀土金屬雜質(zhì)低。

4. 硝酸鈰銨與氨水合成制備氫氧化鈰進(jìn)行代解，與稀硫酸反應(yīng)合成硫酸高鈰

4.1 制備氫氧化鈰將硝酸鈰銨溶于蒸餾水，溫度75℃～85℃，在不斷攪拌，濾液加入氨水進(jìn)行堿解，至氫氧化鈰完全溶解，抽干，用熱蒸餾水80℃～90℃，洗滌5～6次洗至不含NO3，再抽干，得到氫氧化鈰溶液；

4.2 合成優(yōu)級(jí)純硫酸高鈰將分析純稀硫酸125ml于攪拌下加入到上步驟1得到氫氧化鈰溶液，并在水溶上加熱85℃～95℃，過(guò)濾，濾液在水溶上蒸發(fā)至形成結(jié)晶膜，冷卻4～6小時(shí)，結(jié)晶，結(jié)晶用蒸餾水洗5～6次，然后放在瓷皿中于25℃～30℃干燥，取出得到優(yōu)級(jí)純硫酸高鈰。此制備方法得到硫酸高鈰純度高、雜質(zhì)含量低、工藝步驟簡(jiǎn)單、生產(chǎn)效率高。

無(wú)水硫酸鈰對(duì)可見(jiàn)光和紫外線是敏感的；特別是在稀溶液中。因此，應(yīng)當(dāng)把溶液保存在涂黑的瓶中.儲(chǔ)存的溶液的濃度應(yīng)當(dāng)是0.1-0.4N。在這樣高的濃度時(shí)，如果溶液處于靜止?fàn)顟B(tài)，有機(jī)雜質(zhì)會(huì)發(fā)生氧化，但如試劑和水中的有機(jī)雜質(zhì)的含量充分低，那么這種溶液可以貯存幾個(gè)月，而不會(huì)發(fā)生顯著的變質(zhì)。由于這種劑量計(jì)對(duì)光礅感，因此在照射前、照射期間和照射過(guò)后，都應(yīng)小心避免過(guò)度的光照。