光學(xué)鍍膜、光纖摻雜、激光晶體、單晶原料、激光放大器氫氟酸沉淀-真空脫水法。將過(guò)量氫氟酸加到氯化鉺或硝酸鉺中，將其水溶液在水浴上蒸發(fā)、濃縮、冷卻、結(jié)晶，即可制得三氟化鉺的水合物。然后在真空中加熱脫去結(jié)晶水。氫氟酸濃度一般為40%～48%，它的消耗量是理論量的110%～120%。從水溶液中析出的氟化鉺沉淀，必須用水充分洗滌，水洗采用傾瀉法。過(guò)濾后的沉淀物在100～150℃下干燥，以脫去吸附水。得到只含結(jié)晶水的氟化物。為避免脫水中發(fā)生高溫水解，生成氟氧化物ErOF,脫水過(guò)程需在真空中加熱進(jìn)行。真空度要高于0.133Pa，脫水溫度不低于300℃。另一種脫水方法就是將水合氟化鉺放在干燥氟化氫氣流中脫水，最終脫水溫度為600～650℃。由于氫氟酸沉淀是在水溶液中進(jìn)行的，故一般使用塑料反應(yīng)容器，且脫水設(shè)備宜用耐高溫腐蝕的材料，一般采用鎳基合金材料制作。