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タンタル(V)ペンタエトキシド

タンタル(V)ペンタエトキシド price.
  • ¥9400 - ¥703100
  • 化學(xué)名: タンタル(V)ペンタエトキシド
  • 英語名: TANTALUM ETHOXIDE
  • 別名:タンタル(V)ペンタエタノラート;ペンタキスエトキシタンタル(V);ペンタエトキシタンタル(V);タンタル(V)ペンタエトキシド;タンタルペンタエトキシド;エトキシタンタル,6N;タンタル(V)エトキシド;タンタルエチラート,6N;ペンタエトキシタンタル,6N;ペンタエトキシタンタル;タンタル(V)エトキシド, OPTICAL GRADE, 99.95% (METAL BASIS);タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM;タンタル(V)エトキシド (99.9999%-Ta) PURATREM;タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm;タンタルエトキシド;ペンタキス(エトキシ)タンタル(V)
  • CAS番號(hào): 6074-84-6
  • 分子式: C10H25O5Ta
  • 分子量: 406.25
  • EINECS:228-010-2
  • MDL Number:MFCD00049785
12物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 1g
  • 5g
  • 25G
  • 100g
  • 10g
  • 50g
  • 50g×5
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM93-7303
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 包裝単位50g×5
  • 価格¥703100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01ALF014643
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 包裝単位50g
  • 価格¥347300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM93-7303
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 包裝単位50g
  • 価格¥200800
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01ALF014643
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 包裝単位10g
  • 価格¥78700
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM93-7303
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
  • 包裝単位10g
  • 価格¥58100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM73-1080
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド (99.9999%-Ta) PURATREM
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide (99.9999%-Ta) PURATREM
  • 包裝単位1g
  • 価格¥34800
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01AFAL16033
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド, optical grade, 99.95% (metal basis)
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide, optical grade, 99.95% (metal basis)
  • 包裝単位5g
  • 価格¥31680
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01ALF014643
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
  • 包裝単位1g
  • 価格¥26100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01AFAL16033
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド, optical grade, 99.95% (metal basis)
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide, optical grade, 99.95% (metal basis)
  • 包裝単位1g
  • 価格¥9400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)339113
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド 99.98% trace metals basis
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide 99.98% trace metals basis
  • 包裝単位10g
  • 価格¥28400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)760404
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド packaged for use in deposition systems
  • 英語製品説明 packaged for use in deposition systems
  • 包裝単位25G
  • 価格¥138000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)339113
  • 製品説明タンタル(V)エトキシド 99.98% trace metals basis
  • 英語製品説明Tantalum(V) ethoxide 99.98% trace metals basis
  • 包裝単位100g
  • 価格¥184000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM93-7303 タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
50g×5 ¥703100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01ALF014643 タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
50g ¥347300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM93-7303 タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
50g ¥200800 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01ALF014643 タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
10g ¥78700 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM93-7303 タンタル(V)エトキシド (99.99+%-Ta) PURATREM
Tantalum(V) ethoxide (99.99+%-Ta) PURATREM
10g ¥58100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM73-1080 タンタル(V)エトキシド (99.9999%-Ta) PURATREM
Tantalum(V) ethoxide (99.9999%-Ta) PURATREM
1g ¥34800 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01AFAL16033 タンタル(V)エトキシド, optical grade, 99.95% (metal basis)
Tantalum(V) ethoxide, optical grade, 99.95% (metal basis)
5g ¥31680 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01ALF014643 タンタル(V)エトキシド, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
Tantalum(V) ethoxide, 99.999% (metals basis), Nb <100ppm
1g ¥26100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01AFAL16033 タンタル(V)エトキシド, optical grade, 99.95% (metal basis)
Tantalum(V) ethoxide, optical grade, 99.95% (metal basis)
1g ¥9400 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 339113 タンタル(V)エトキシド 99.98% trace metals basis
Tantalum(V) ethoxide 99.98% trace metals basis
10g ¥28400 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 760404 タンタル(V)エトキシド packaged for use in deposition systems
packaged for use in deposition systems
25G ¥138000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 339113 タンタル(V)エトキシド 99.98% trace metals basis
Tantalum(V) ethoxide 99.98% trace metals basis
100g ¥184000 2024-03-01 購入

プロパティ

融點(diǎn)  :21 °C(lit.)
沸點(diǎn)  :155 °C0.01 mm Hg(lit.)
比重(密度)  :1.566 g/mL at 25 °C(lit.)
屈折率  :n20/D 1.487(lit.)
閃點(diǎn)  :87 °F
貯蔵溫度  :2-8°C
溶解性 :Soluble in organic solvents.
外見  :liquid
比重 :1.56
水溶解度  :Decomposes in water. Soluble in organic solvents.
Hydrolytic Sensitivity :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Sensitive  :Moisture Sensitive/Air Sensitive
BRN  :3678999
CAS データベース :6074-84-6(CAS DataBase Reference)
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Ethanol, tantalum(5+) salt (6074-84-6)

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H226 引火性の液體および蒸気 引火性液體 3 警告
注意書き:
P210 熱/火花/裸火/高溫のもののような著火源から遠(yuǎn)ざ けること。-禁煙。
P233 容器を密閉しておくこと。
P240 容器を接地すること/アースをとること。
P241 防爆型の電気機(jī)器/換気裝置/照明機(jī)器/...機(jī)器を使 用すること。
P242 火花を発生させない工具を使用すること。
P243 靜電気放電に対する予防措置を講ずること。

説明

Tantalum(V) ethoxide acts as a precursor used in the preparation of ultra thin films of tantalum oxide and other tantalum containing films, which finds application in semiconductors. It is also used to prepare tantalum oxide nanoparticles for the imaging cartilage.