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ChemicalBook > 製品カタログ > 無機(jī)化學(xué) > 無機(jī)塩 > イットリウムまたは酸化スカンジウムの希土類金屬、 > ハフニウムジオキシド

ハフニウムジオキシド

ハフニウムジオキシド price.
  • ￥2700 - ￥181900
  • 化學(xué)名: ハフニウムジオキシド
  • 英語名: Hafnium oxide
  • 別名:酸化ハフニウム;ハフニウムジオキシド;ハフニウムジオキサイド;酸化ハフニウム,2N5;酸化ハニウム();酸化ハフニウム(Ⅳ);酸化ハフニウム(IV);酸化ハフニウム(IV), 98%;酸化ハフニウム(IV) (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM;ジオキソハフニウム
  • CAS番號: 12055-23-1
  • 分子式: HfO2
  • 分子量: 210.49
  • EINECS:235-013-2
  • MDL Number:MFCD00003565
14物価
選択條件：
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 関東化學(xué)株式會社(KANTO)
  • Sigma-Aldrich Japan
  • 純正化學(xué)株式會社
パッケージ
  • 1g
  • 5g
  • 10g
  • 25g
  • 50g
  • 100g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM72-5200
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
  • 包裝単位5g
  • 価格￥181900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM93-7204
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV), 98%
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide, 98%
  • 包裝単位50g
  • 価格￥76500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM72-5200
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
  • 包裝単位1g
  • 価格￥45200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM93-7204
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV), 98%
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide, 98%
  • 包裝単位10g
  • 価格￥18900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01W0108-0217
  • 製品説明酸化ハフニウム 95.0+% (Titration)
  • 英語製品説明Hafnium Oxide 95.0+% (Titration)
  • 包裝単位1g
  • 価格￥3950
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化學(xué)株式會社(KANTO)
  • 製品番號18000-33
  • 製品説明酸化ハフニウム，２Ｎ５ >99.5%(Im.S.)
  • 英語製品説明Hafnium oxide, 2N5 >99.5%(Im.S.)
  • 包裝単位25g
  • 価格￥22000
  • 更新しました2024-07-01
  • 購入
  • 生産者関東化學(xué)株式會社(KANTO)
  • 製品番號18000-23
  • 製品説明酸化ハフニウム，２Ｎ５ >99.5%(Im.S.)
  • 英語製品説明Hafnium oxide, 2N5 >99.5%(Im.S.)
  • 包裝単位100g
  • 価格￥63000
  • 更新しました2024-07-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號203394
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) ≥99.95%
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide ≥99.95%
  • 包裝単位1g
  • 価格￥16000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號202118
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) powder, 98%
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide powder, 98%
  • 包裝単位25g
  • 価格￥17400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號769401
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) pellets, diam. × thickness 13?mm × 5?mm
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide pellets, diam. × thickness 13?mm × 5?mm
  • 包裝単位25g
  • 価格￥24300
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號202118
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) powder, 98%
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide powder, 98%
  • 包裝単位100g
  • 価格￥32000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號769398
  • 製品説明酸化ハフニウム(IV) pellets, diam. × thickness 9?mm × 4.2?mm
  • 英語製品説明Hafnium(IV) oxide pellets, diam. × thickness 9?mm × 4.2?mm
  • 包裝単位25g
  • 価格￥34200
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者純正化學(xué)株式會社
  • 製品番號32310-1615
  • 製品説明酸化ハフニウム（Ⅳ）
  • 英語製品説明Hafnium(Ⅳ) oxide
  • 包裝単位1g
  • 価格￥2700
  • 更新しました2022-04-26
  • 購入
  • 生産者純正化學(xué)株式會社
  • 製品番號32310-1615
  • 製品説明酸化ハフニウム（Ⅳ）
  • 英語製品説明Hafnium(Ⅳ) oxide
  • 包裝単位1g
  • 価格￥2700
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番號 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM72-5200 酸化ハフニウム(IV) (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM 		5g ￥181900 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM93-7204 酸化ハフニウム(IV), 98%
Hafnium(IV) oxide, 98% 		50g ￥76500 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM72-5200 酸化ハフニウム(IV) (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM
Hafnium(IV) oxide (99.995%-Hf, <0.15% Zr) PURATREM 		1g ￥45200 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM93-7204 酸化ハフニウム(IV), 98%
Hafnium(IV) oxide, 98% 		10g ￥18900 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01W0108-0217 酸化ハフニウム 95.0+% (Titration)
Hafnium Oxide 95.0+% (Titration)		 1g ￥3950 2024-03-01 購入
関東化學(xué)株式會社(KANTO) 18000-33 酸化ハフニウム，２Ｎ５ >99.5%(Im.S.)
Hafnium oxide, 2N5 >99.5%(Im.S.)		 25g ￥22000 2024-07-01 購入
関東化學(xué)株式會社(KANTO) 18000-23 酸化ハフニウム，２Ｎ５ >99.5%(Im.S.)
Hafnium oxide, 2N5 >99.5%(Im.S.)		 100g ￥63000 2024-07-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 203394 酸化ハフニウム(IV) ≥99.95%
Hafnium(IV) oxide ≥99.95%		 1g ￥16000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 202118 酸化ハフニウム(IV) powder, 98%
Hafnium(IV) oxide powder, 98%		 25g ￥17400 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 769401 酸化ハフニウム(IV) pellets, diam. × thickness 13?mm × 5?mm
Hafnium(IV) oxide pellets, diam. × thickness 13?mm × 5?mm		 25g ￥24300 2023-06-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 202118 酸化ハフニウム(IV) powder, 98%
Hafnium(IV) oxide powder, 98%		 100g ￥32000 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 769398 酸化ハフニウム(IV) pellets, diam. × thickness 9?mm × 4.2?mm
Hafnium(IV) oxide pellets, diam. × thickness 9?mm × 4.2?mm		 25g ￥34200 2021-03-23 購入
純正化學(xué)株式會社 32310-1615 酸化ハフニウム（Ⅳ）
Hafnium(Ⅳ) oxide 		1g ￥2700 2022-04-26 購入
純正化學(xué)株式會社 32310-1615 酸化ハフニウム（Ⅳ）
Hafnium(Ⅳ) oxide 		1g ￥2700 2024-03-01 購入

プロパティ

融點(diǎn)  :2810 °C
比重(密度)  :9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
屈折率  :2.13 (1700 nm)
溶解性 :insoluble in H2O
外見  :powder
色 :Off-white
比重 :9.68
水溶解度  :Insoluble in water.
Crystal Structure :Monoclinic
晶系 :Monoclinic
Merck  :14,4588
空間群 :P21/c
晶格常數(shù) :
a/nmb/nmc/nmα/oβ/oγ/oV/nm3
0.511560.517220.529489099.18900.1383

暴露限界値 :ACGIH: TWA 0.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 50 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3 InChIKey :CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
CAS データベース :12055-23-1(CAS DataBase Reference)
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Hafnium oxide (HfO2) (12055-23-1)

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強(qiáng)い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
注意書き:
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護(hù)手袋/保護(hù)衣/保護(hù)眼鏡/保護(hù)面を著用するこ と。
P302+P352 皮膚に付著した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場合：醫(yī)師の診斷/手當(dāng)てを受けるこ と。
P337+P313 眼の刺激が続く場合：醫(yī)師の診斷/手當(dāng)てを受けること。

説明

Hafnium(IV) oxide is used in optical coatings and in advanced metal-oxide-semiconductor devices. It is used as a gate insulator in field-effect transistors due to its high dielectric constant. It plays an important role as a possible candidate for resistive-switching memories, as a refractory material in the insulation of devices such as thermocouples and as a high-κ dielectric in DRAM capacitors. It is also used in the preparation of hafnium tetrachloride.

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