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1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン

1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン price.
4物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 500mg
  • 1g
  • 5g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01MAS102328
  • 製品説明1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
  • 英語製品説明1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
  • 包裝単位5g
  • 価格¥258100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01MAS102328
  • 製品説明1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
  • 英語製品説明1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
  • 包裝単位1g
  • 価格¥86000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01MAS102328
  • 製品説明1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
  • 英語製品説明1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
  • 包裝単位500mg
  • 価格¥63900
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)682233
  • 製品説明 96%
  • 英語製品説明1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane 96%
  • 包裝単位1g
  • 価格¥4180
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01MAS102328 1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
5g ¥258100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01MAS102328 1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
1g ¥86000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01MAS102328 1,2-ビス(2-メトキシフェニル)-1,1,2,2-テトラメチルジシラン
1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane
500mg ¥63900 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 682233 96%
1,2-Bis(2-methoxyphenyl)-1,1,2,2-tetramethyldisilane 96%
1g ¥4180 2023-06-01 購入

プロパティ

沸點(diǎn)  :139-144°C/4mm
比重(密度)  :1.0297 g/mL at 25 °C
屈折率  :n20/D1.5673
閃點(diǎn)  :139-144°C/4mm
比重 :1.030
Hydrolytic Sensitivity :4: no reaction with water under neutral conditions

安全情報(bào)

絵表示(GHS):
注意喚起語:
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
注意書き:

説明

The lithium reagent derived from this disilane can be used to install a C-Si bond, easily cleaved by Tamao-Fleming oxidation.

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