二氟化氙（XeF2），又稱二氟代氙，分子量為169.30，是一種無色固體，在室溫下容易升華而形成透明晶體。二氟化氙在中性或堿性溶液中分解，在酸性溶液中較為穩(wěn)定，水溶液有刺激氣味。二氟化氙蒸汽是無色的，具有令人發(fā)嘔的惡臭。在電子工業(yè)中，XeF2常被用作硅的蝕刻氣體，由于XeF2和硅的化學反應是自發(fā)反應，XeF2對硅的腐蝕工藝具有非常高的選擇性，在XeF2對硅進行腐蝕過程中，XeF2氣體通過自由擴散到硅襯底表面，并與最外層硅原子發(fā)生化學反應生成氣態(tài)Xe和氣態(tài)SiF4，從而實現(xiàn)對硅的腐蝕。

 
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     公司成立于2015年，坐落于山東省淄博市淄川區(qū)南韓工業(yè)園內，項目投資 15億元，占地 200 畝。2018年公司順利通過了“國家高新技術企業(yè)”認定。公司投資配置了5000平方米的研發(fā)、中試基地，可同時開展功氟碳材料，高比能鋰電池正、負極材料，含氟醫(yī)藥生物材料，半導體材料等相關研制與生產，與多家大學、試驗研究所建立研究合作關系 ，材料性能超越進口產品。