三甲氧基硅烷(化學式:HSi(OCH?)?)是一種重要的有機硅前驅(qū)體,兼具硅氫鍵(Si-H)和甲氧基(-OCH?)反應活性,廣泛應用于硅烷偶聯(lián)劑、高分子改性、半導體材料等領域。其特點為高反應活性、低沸點,需在惰性氣氛下儲存。
化學式:HSi(OCH?)?
CAS號:2487-90-3
分子量:122.20 g/mol
外觀:無色透明液體
沸點:84-86°C
密度:0.96 g/cm3(25°C)
溶解性:
溶于乙醇、丙酮、甲苯等有機溶劑。
遇水緩慢水解,生成硅醇(Si-OH)和甲醇。
特性:
Si-H鍵:可參與氫化、加成反應(如與烯烴的硅氫加成)。
甲氧基:易水解縮合形成Si-O-Si網(wǎng)絡(如溶膠-凝膠過程)。
反應式:
SiH4+3CH3OH→HSi(OCH3)3+3H2↑SiH4+3CH3OH→HSi(OCH3)3+3H2↑
條件:
催化劑:胺類或金屬絡合物(如CuCl)。
溫度:50-80°C,加壓反應。
三氯硅烷(HSiCl?)與甲醇反應:
HSiCl3+3CH3OH→HSi(OCH3)3+3HCl↑HSiCl3+3CH3OH→HSi(OCH3)3+3HCl↑
需用堿(如NaOH)吸收副產(chǎn)HCl。
表面處理:
玻璃纖維:增強與樹脂的界面結(jié)合力(水解后與玻纖表面-OH縮合)。
金屬防腐:在金屬表面形成疏水硅氧烷膜。
硅氫加成:與烯烴(如聚丁二烯)反應引入甲氧基硅烷側(cè)鏈。
交聯(lián)劑:用于室溫硫化(RTV)硅橡膠。
前驅(qū)體材料:化學氣相沉積(CVD)制備SiO?薄膜。
溶膠-凝膠法:合成納米多孔硅材料。
合成含硅藥物(如抗腫瘤硅烷衍生物)。
美特(湖北)新材料有限責任公司
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陳經(jīng)理