陽離子清除劑：在肽合成過程中，三異丙基硅烷常被用作陽離子清除劑，用于去除氨基酸保護(hù)基團(tuán)。

薄膜沉積：三異丙基硅烷可以用于等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）工藝中，作為前驅(qū)體用于SiO2薄膜的生長。這種技術(shù)允許在低至50°C的溫度下沉積不含碳雜質(zhì)的SiO2薄膜。

合成二氮喹霉素：在合成二氮喹霉素的過程中，三異丙基硅烷用于雙克諾爾環(huán)化反應(yīng)，幫助獲得純二氮喹霉素H和J，同時防止末端異支鏈尾部在硫酸中異構(gòu)化。

保護(hù)劑：三異丙基硅烷是一種合成位阻型有機(jī)硅保護(hù)劑的原料，主要用于保護(hù)各種類型的羥基，特別是在多官能羥基化合物中，可有選擇地進(jìn)行保護(hù)和脫保護(hù)。

其他化學(xué)合成：三異丙基硅烷還可以用于其他化學(xué)合成過程，例如作為中間體或試劑，參與各種有機(jī)合成反應(yīng)。