離子注入:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中,是關(guān)鍵的離子注入氣體,在生產(chǎn)高性能半導(dǎo)體過(guò)程中(如離子注入、外延生長(zhǎng)、摻雜、刻蝕、清洗)起到重要作用
碰摻雜:是常用的硼摻雜產(chǎn)品,用于硅離子布植過(guò)程,可增強(qiáng)硅的電學(xué)性質(zhì);應(yīng)用于P型半導(dǎo)體生產(chǎn)中,生產(chǎn)出的芯片具有高集成、高密度、體積小、性能優(yōu)越等特點(diǎn)
其他領(lǐng)域:是顯示面板OLED的重要原料,也可以作為制備光纖預(yù)制件的原料,公司可生產(chǎn)5N級(jí)以上的超純?nèi)?11B電子特氣
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