硅鋁氧化物是低折射率混合膜料,用于鍍制增透膜及減反膜,特別適合于塑料襯底。它的折射率和硬度和SiO2相似,但鍍膜可操作性、環(huán)境適應性比SiO2要好,膜層應力更小,其透過范圍從330nm到2.0μm。但氧化硅熔點1600℃,氧化鋁熔點2050℃,450℃的熔點差導致蒸發(fā)速率不穩(wěn)定,氧化鋁蒸發(fā)困難。我們解決了這個難題,我司該類產(chǎn)品鍍膜穩(wěn)定性好,改善薄膜的光潔度和可擦試性,提高了環(huán)測條件。
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