基本的OLED蒸鍍工藝,首先從去除LTPS(包含陽極)基板上的污垢和雜質(zhì)的工作開始。在清洗和干燥襯底之后,使用plasma去除陽極殘留物質(zhì),并且改善從陽極到HIL的空穴注入特性。
然后,全面蒸鍍HIL(空穴注入層),然后在蒸鍍HTL(空穴傳輸層)以形成輔助層。
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