電子混合氣體廣泛用于大規(guī)模集成電路(L.S.I)超大規(guī)模集成電路(V.L.S.I)和半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中,主要用于氣相外延(生成)、化學(xué)氣相淀積、摻雜(雜質(zhì) 擴散)、各類蝕刻和離子注入等工藝中。包括:1. 外延生長用混合氣體2. 蝕刻用混合氣體3. 摻雜用混合氣體4. 化學(xué)氣相淀積用混合氣體5. 離子注入用混合氣氣體所用氣體包括:二氯二氫硅、四氯化硅和硅烷;四氟化碳、三氟化氮、 三氟甲烷、六氟乙烷、全氟丙烷;砷烷、磷烷、三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷等。
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