氧化錫/銦錫蝕刻劑TE100
氧化銦錫膜在制備時,先沉積一層銦—錫膜。然后將銦-—錫膜用氧等離子體氧化,或在較高溫度下在一個氧化氛中氧化。當進行蝕刻時,銦以三價水絡合物[In(H2O)6]3+的形式溶解,而錫則生成[SnCl6]2-陰離子。
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