中文名稱:三甲基鎵中文同義詞:三甲基鎵(TMG);高純?nèi)谆?三甲基鎵;三甲基鎵;三甲基鎵TMGA英文名稱:TRIMETHYLGALLIUM英文同義詞:GALLIUMTRIMETHYL;TRIMETHYLGALLIUM;(CH3)3Ga;trimethyl-galliu;TMGa;Trimethylgallium,99+%;Trimethylgallium,elec.gr.(99.9999%-Ga)PURATREM;TRIMETHYLGALLIUM(III)CAS號:1445-79-0分子式:C3H9Ga分子量:114.83EINECS號:215-897-6相關(guān)類別:中間體;化工原料;無機(jī)物;metalalkylMol文件:1445-79-0.mol三甲基鎵性質(zhì)熔點(diǎn)-15,8°C沸點(diǎn)55,7°C密度1,151g/cm3閃點(diǎn)-18°C形態(tài)liquid比重1.1151顏色colorless水解敏感性10:reactsextremelyrapidlywithmoistureandoxygen-maybepyrophoric-sealedsystemrequired敏感性moisturesensitiveInChIKeyXCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-NEPA化學(xué)物質(zhì)信息Trimethylgallium(1445-79-0)三甲基鎵用途與合成方法簡介三甲基鎵在常溫常壓下為無色透明有毒液體。在空氣中易氧化，在室溫自燃，燃燒時(shí)發(fā)出金屬氧化物白煙。高溫時(shí)自行分解。它在已烷、庚烷等脂肪族飽和烴和甲苯、二甲苯等芳香族烴中以任何比例相溶。與水激烈反應(yīng)生成Me2GaOH和[(Me2Ga)2O]X，并放出甲烷氣。用途三甲基鎵可用于金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)，制備GaAs、AsGaAl等半導(dǎo)體化合物等，是制造發(fā)光二極管等電子元件的鎵源，也用于太陽能電池的制造。應(yīng)用三甲基鎵（Ga(CH3)3，TMG）是MOCVD工藝技術(shù)生產(chǎn)光電材料如氮化鎵等的關(guān)鍵MO源原料，為MO源化合物中應(yīng)用最廣泛的金屬有機(jī)化合物。MO源，即金屬有機(jī)化合物，是光電半導(dǎo)體材料行業(yè)等領(lǐng)域的重要金屬來源，是MOCVD工藝（即金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積工藝）等工藝技術(shù)生產(chǎn)制備合成新型半導(dǎo)體光電化合物材料的基礎(chǔ)源材料。