二けい化タングステン
- ¥3600 - ¥4200
- 化學(xué)名: 二けい化タングステン
- 英語(yǔ)名: TUNGSTEN SILICIDE
- 別名:二けい化タングステン;二けい化タングステン (平均粒徑 6?12ΜM)
- CAS番號(hào): 12039-88-2
- 分子式: Si2W
- 分子量: 240.01
- EINECS:234-909-0
- MDL Number:MFCD00049704
2物価
選択條件:
ブランド
- 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
パッケージ
- 100g
- 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
- 製品番號(hào)W01W0120-1240
- 製品説明二けい化タングステン (平均粒徑 6?12μm) 22.5~24.5% (as Si)
- 英語(yǔ)製品説明Tungsten Disilicide 22.5~24.5% (as Si)
- 包裝単位100g
- 価格¥3600
- 更新しました2018-12-26
- 購(gòu)入
- 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
- 製品番號(hào)W01W0120-1239
- 製品説明二けい化タングステン
- 英語(yǔ)製品説明Tungsten Disilicide
- 包裝単位100g
- 価格¥4200
- 更新しました2018-12-26
- 購(gòu)入
生産者 | 製品番號(hào) | 製品説明 | 包裝単位 | 価格 | 更新時(shí)間 | 購(gòu)入 |
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富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) | W01W0120-1240 | 二けい化タングステン (平均粒徑 6?12μm) 22.5~24.5% (as Si) Tungsten Disilicide 22.5~24.5% (as Si) |
100g | ¥3600 | 2018-12-26 | 購(gòu)入 |
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) | W01W0120-1239 | 二けい化タングステン Tungsten Disilicide |
100g | ¥4200 | 2018-12-26 | 購(gòu)入 |
プロパティ
融點(diǎn) :2165°C
比重(密度) :9,88 g/cm3
溶解性 :insoluble in H2O
外見(jiàn) :Powder
比重 :9.88
色 :blue-gray tetragonal crystals, crystalline
電気抵抗率 (resistivity) :33.4 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度 :Insoluble in water.
Hydrolytic Sensitivity :2: reacts with aqueous acid
Crystal Structure :Tetragonal
暴露限界値 :ACGIH: TWA 3 mg/m3
NIOSH: TWA 5 mg/m3; STEL 10 mg/m3 CAS データベース :12039-88-2
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Tungsten silicide (WSi2) (12039-88-2)
比重(密度) :9,88 g/cm3
溶解性 :insoluble in H2O
外見(jiàn) :Powder
比重 :9.88
色 :blue-gray tetragonal crystals, crystalline
電気抵抗率 (resistivity) :33.4 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度 :Insoluble in water.
Hydrolytic Sensitivity :2: reacts with aqueous acid
Crystal Structure :Tetragonal
暴露限界値 :ACGIH: TWA 3 mg/m3
NIOSH: TWA 5 mg/m3; STEL 10 mg/m3 CAS データベース :12039-88-2
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :Tungsten silicide (WSi2) (12039-88-2)
安全情報(bào)
絵表示(GHS): | ||||||||
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注意喚起語(yǔ): | ||||||||
危険有害性情報(bào): |
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注意書き: |
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説明
Tungsten silicide is used in microelectronics as a contact material. It is also used as a shunt over polysilicon lines to increase their conductivity and increase signal speed. Further, it acts as a barrier layer between silicon and other metals. In addition to this, it is used in microelectro mechanical systems and for oxidation-resistant coatings. It is also employed as a replacement for earlier tungsten films.関連商品価格
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