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ChemicalBook > 製品カタログ > 有機(jī)化學(xué)品 > アミノ化合物 > 非環(huán)式モノアミン、ポリアミンおよびそれらの誘導(dǎo)體および塩 > N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリアミン

N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリアミン

N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリアミン price.
  • ¥26900 - ¥268800
  • 化學(xué)名: N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリアミン
  • 英語(yǔ)名: TRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE
  • 別名:N,N',N''-シラントリイルトリス(ジメチルアミン);N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリイルトリアミン;トリス(ジメチルアミノ)シラン;N,N,N',N',N'',N''-ヘキサメチルシラントリアミン;N,N',N''-(シラントリイル)トリス(ジメチルアミン);N,N,N’,N’,N’’,N’’-ヘキサメチルシラントリアミン;TRIS(DIMETHYLAMINO)SILANE, 99+%, 3DMAS (99.999%-SI) PURATREM, 14-8750, CONTAINED IN 50 ML SWAGELOK? CYLINDER (96-1070) FOR CVD/ALD;トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM;トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD;N,N,N′,N′,N′′,N′′-ヘキサメチルシラントリイルトリアミン;N,N,N′,N′,N′′,N′′-ヘキサメチルシラントリアミン;N,N′,N′′-(シラントリイル)トリス(ジメチルアミン);N,N′,N′′-シラントリイルトリス(ジメチルアミン);[ビス(ジメチルアミノ)シリル]ジメチルアミン
  • CAS番號(hào): 15112-89-7
  • 分子式: C6H19N3Si
  • 分子量: 161.32
  • EINECS:239-165-0
  • MDL Number:MFCD00048006
8物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 5g
  • 10g
  • 25g
  • 100g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01S04LS-1460
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane
  • 包裝単位100g
  • 価格¥268800
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM98-4035
  • 製品説明Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD
  • 包裝単位25g
  • 価格¥265200
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM14-8750
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
  • 包裝単位25g
  • 価格¥92000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01S04LS-1460
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane
  • 包裝単位25g
  • 価格¥67200
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01SRM14-8750
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
  • 包裝単位5g
  • 価格¥32300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01S04LS-1460
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane
  • 包裝単位10g
  • 価格¥26900
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)570133
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン electronic grade, 99.999%
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane electronic grade, 99.999%
  • 包裝単位25g
  • 価格¥27200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)759562
  • 製品説明トリス(ジメチルアミノ)シラン packaged for use in deposition systems
  • 英語(yǔ)製品説明Tris(dimethylamino)silane packaged for use in deposition systems
  • 包裝単位25g
  • 価格¥127000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購(gòu)入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01S04LS-1460 トリス(ジメチルアミノ)シラン
Tris(dimethylamino)silane
100g ¥268800 2021-03-23 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM98-4035 Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD
Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM, 14-8750, contained in 50 ml Swagelok? cylinder (96-1070) for CVD/ALD
25g ¥265200 2021-03-23 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM14-8750 トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
25g ¥92000 2024-03-01 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01S04LS-1460 トリス(ジメチルアミノ)シラン
Tris(dimethylamino)silane
25g ¥67200 2021-03-23 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01SRM14-8750 トリス(ジメチルアミノ)シラン, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
Tris(dimethylamino)silane, 99+%, 3DMAS (99.999%-Si) PURATREM
5g ¥32300 2024-03-01 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01S04LS-1460 トリス(ジメチルアミノ)シラン
Tris(dimethylamino)silane
10g ¥26900 2021-03-23 購(gòu)入
Sigma-Aldrich Japan 570133 トリス(ジメチルアミノ)シラン electronic grade, 99.999%
Tris(dimethylamino)silane electronic grade, 99.999%
25g ¥27200 2024-03-01 購(gòu)入
Sigma-Aldrich Japan 759562 トリス(ジメチルアミノ)シラン packaged for use in deposition systems
Tris(dimethylamino)silane packaged for use in deposition systems
25g ¥127000 2024-03-01 購(gòu)入

プロパティ

融點(diǎn)  :<0°C
沸點(diǎn)  :145 °C
比重(密度)  :0,838 g/cm3
屈折率  :1.4247
閃點(diǎn)  :25°C
酸解離定數(shù)(Pka) :10.93±0.70(Predicted)
外見(jiàn)  :liquid
色 :colorless to light yellow
比重 :0.84
Sensitive  :air sensitive, moisture sensitive
Hydrolytic Sensitivity :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
EPAの化學(xué)物質(zhì)情報(bào) :

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictogramsGHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語(yǔ): Danger
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語(yǔ) シンボル P コード
H225 引火性の高い液體および蒸気 引火性液體 2 危険 GHS hazard pictograms P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501
H261 水に觸れると可燃性/引火性ガスを発生 水反応可燃性化學(xué)品 2
3
危険
警告
GHS hazard pictograms P231+P232, P280, P370+P378,P402+P404, P501
H302 飲み込むと有害 急性毒性、経口 4 警告 GHS hazard pictograms P264, P270, P301+P312, P330, P501
H311 皮膚に接觸すると有毒 急性毒性、経皮 3 危険 GHS hazard pictograms P280, P302+P352, P312, P322, P361,P363, P405, P501
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
H330 吸入すると生命に危険 急性毒性、吸入 1, 2 危険 GHS hazard pictograms P260, P271, P284, P304+P340, P310,P320, P403+P233, P405, P501
注意書(shū)き:
P210 熱/火花/裸火/高溫のもののような著火源から遠(yuǎn)ざ けること。-禁煙。
P231+P232 濕気を遮斷し、不活性ガス下で取り扱うこと。
P280 保護(hù)手袋/保護(hù)衣/保護(hù)眼鏡/保護(hù)面を著用するこ と。
P303+P361+P353 皮膚(または髪)に付著した場(chǎng)合:直ちに汚染された衣 類(lèi)をすべて脫ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場(chǎng)合:水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場(chǎng)合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

Tris(dimethylamino)silane (TDMAS) is used as an organosilicon source for the deposition of Si oxynitride; carbonitride; nitride and oxide thin films. It is also used to form multicomponent silicon containing thin films. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range; thus making it a very good vapor deposition precursor.