[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸
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- CAS番號.
- 23605-74-5
- 化學名:
- [1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸
- 別名:
- N,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)ヘキサメチレンジアミン;N,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)-1,6-ヘキサンジアミン;[ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)]テトラキスホスホン酸;[ヘキサメチレンビス(ニトリロジメチレン)]テトラホスホン酸;[1,6-ヘキサンジイルビスニトリロテトラ(メチレン)]テトラホスホン酸;(1,6-ヘキサンジイルジニトリロ)テトラ(メチレン)テトラホスホン酸;ヘキサメチレンビスニトリロテトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸);1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸;[ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)]テトラホスホン酸;[(1,6-ヘキサンジイル)ビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸;[1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸;[(ヘキサメチレンビスニトリロ)テトラキスメチレン]テトラキスホスホン酸;ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸;ヘキサン-1,6-ジイルビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸;1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]テトラキスホスホン酸;[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸;ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)テトラホスホン酸;ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸);[ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸;(ヘキサメチレンビスニトリロテトラキスメチレン)テトラキスホスホン酸
- 英語名:
- HDTMPA
- 英語別名:
- hdtmp;HMDTMP;HDTMPA;dequest2051;dequest 2054;DEQUEST 2054(R);Dequest(R) 2054;dequest2051deflocculantandsequestrant;hexamethylenediamine-N,N,N',N'-tetrakis;hexanediamine tetramethylphosphonic acid
- CBNumber:
- CB4729343
- 化學式:
- C10H28N2O12P4
- 分子量:
- 492.23
- MOL File:
- 23605-74-5.mol
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[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸 物理性質(zhì)
安全性情報
- リスクと安全性に関する聲明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| WGK Germany |
1 |
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| RTECS 番號 |
SZ8560500 |
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| 毒性 |
rabbit,LD50,skin,> 7940mg/kg (7940mg/kg),BEHAVIORAL: SOMNOLENCE (GENERAL DEPRESSED ACTIVITY)BEHAVIORAL: FOOD INTAKE (ANIMAL),Acute Toxicity Data. Journal of the American College of Toxicology, Part B. Vol. 1, Pg. 99, 1990. |
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| 絵表示（GHS） |
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| 注意喚起語 |
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| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
區(qū)分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
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P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
| H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
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P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
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| 注意書き |
| P264 |
取扱い後は皮膚をよく洗うこと。 |
| P264 |
取扱い後は手や顔をよく洗うこと。 |
| P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を著用するこ と。 |
| P302+P352 |
皮膚に付著した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
| P321 |
特別な処置が必要である（このラベルの．．． を見よ）。 |
| P332+P313 |
皮膚刺激が生じた場合：醫(yī)師の診斷/手當てを受けるこ と。 |
| P362 |
汚染された衣類を脫ぎ、再使用す場合には洗濯をすること。 |
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[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸 価格
| メーカー |
製品番號 |
製品説明 |
CAS番號 |
包裝 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸 化學特性,用途語,生産方法
使用
Hexamethylenediamine-N,N,N'',N''-tetrakis(methylphosphonic Acid) is used in the acute toxicologic evaluation DEQUEST 2051. It is also used in tatar formation inhibition compositions. Hexamethylenediamine-N,N,N'',N''-tetrakis(methylphosphonic Acid) is used in the studies of calcium oxalate crystal growth inhibition by multidentated organic phosphonate.
[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
[1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸 生産企業(yè)
Global( 146)Suppliers
23605-74-5([1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸)キーワード:
ヘキサメチルりん酸トリアミド
1,2-シクロヘキサンジアミン (cis-, trans-混合物)
エチドロン酸
メチル亜ホスホン酸ジエチル
クロロスルホニル酢酸エチルエステル
ナイロン 6/6
葉酸水和物
1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン
メチルホスホン酸
くえん酸
ニトリロトリス(メチレンホスホン酸) (約50%水溶液, 約2.2mol/L)
1,6-ジアミノヘキサン
オルトけい酸テトラメチル
テトラメチルアンモニウムクロリド
ステアリン酸
4,4'-ジイソシアン酸メチレンジフェニル
メチレンブルー
アスコルビン酸
- 23605-74-5
- DEQUEST 2054(R)
- (1,6-hexanediylbis(nitrilobis(methylene)))tetrakis-phosphonicaci
- (1,6-hexanediylbis(nitrilobis(methylene)))tetrakisphosphonicacid
- [1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis-phosphonicaci
- dequest2051
- dequest2051deflocculantandsequestrant
- hdtmp
- hexamethylenebis(nitrilodimethylene)tetra-phosphonicaci
- hexamethylenediamine-N,N,N',N'-tetrakis-(methylphosphon.ac.)
- Hexamethylenediamine-N,N,N,N-tetrakis(methylphosphonic acid) solution
- Hexamethylenediaminetetra(methylene phosphonic acid)
- HMDTMP
- Phosphonic acid, 1,6-hexanediylbisnitrilobis(methylene)tetrakis-
- dequest 2054
- (1,6-HEXANEDIYLBIS(NITRILOBIS(METHYLENE)))TETRAKIS-PHOSPHO.
- (HEXAMETHYLENEBIS(NITRILODIMETHYLENE))TETRA-PHOSPHONICACID
- Hexamethylenediaminetetrakis-(methylenephosphonic acid)
- Dequest(R) 2054
- (1,6-Hexanediyldinitrilo)tetra(methylene)tetraphosphonic acid
- HEXAMETHY LENEDIAMINETETRA(METHY LENEPHOSPHONIC
- HexaMethyleneDiamineTetra (MethylenePhosphonic Acid) HMDTMPA
- HexaMethylenediaMine-N,N,N',N'-tetrakis(Methylpho
- [hexane-1,6-diylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakisphosphonic acid
- HDTMPA
- Hexamethylenebis(nitrilodimethylene)tetraphosphonic acid HDTMP
- Phosphonic acid, 1,6-hexanediylbisnitrilobis(methylene)tetrak
- Hexamethylenediamine-N,N,N,N-Tetrakis(Methylphosphonic Acid),>98%
- hexanediamine tetramethylphosphonic acid
- Phosphonic acid, P,P',P'',P'''-[1,6-hexanediylbis[nitrilobis(methylene)]]tetrakis-
- hexamethylenediamine-N,N,N',N'-tetrakis
- N,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)ヘキサメチレンジアミン
- N,N,N',N'-テトラキス(ホスホノメチル)-1,6-ヘキサンジアミン
- [ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)]テトラキスホスホン酸
- [ヘキサメチレンビス(ニトリロジメチレン)]テトラホスホン酸
- [1,6-ヘキサンジイルビスニトリロテトラ(メチレン)]テトラホスホン酸
- (1,6-ヘキサンジイルジニトリロ)テトラ(メチレン)テトラホスホン酸
- ヘキサメチレンビスニトリロテトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸)
- 1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸
- [ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)]テトラホスホン酸
- [(1,6-ヘキサンジイル)ビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸
- [1,6-ヘキサンジイルビス(ニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸
- [(ヘキサメチレンビスニトリロ)テトラキスメチレン]テトラキスホスホン酸
- ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸
- ヘキサン-1,6-ジイルビス(ニトリロビスメチレン)テトラキスホスホン酸
- 1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]テトラキスホスホン酸
- [1,6-ヘキサンジイルビス[ニトリロビス(メチレン)]]テトラキスホスホン酸
- ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)テトラホスホン酸
- ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキスメチレンテトラキス(ホスホン酸)
- [ヘキサメチレンビス(ニトリロビスメチレン)]テトラキスホスホン酸
- (ヘキサメチレンビスニトリロテトラキスメチレン)テトラキスホスホン酸
- N,N,N′,N′-テトラキス(ホスホノメチル)ヘキサメチレンジアミン
- [({6-[ビス(ホスホノメチル)アミノ]ヘキシル}(ホスホノメチル)アミノ)メチル]ホスホン酸
- N,N,N′,N′-テトラキス(ホスホノメチル)-1,6-ヘキサンジアミン
- ヘキサメチレンビス(ニトリロ)テトラキス(メチレン)テトラキスホスホン酸
- ヘキサメチレンジアミンテトラキス(メチレンホスホン酸)