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20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液

20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 化學構造式
28210-41-5
CAS番號.
28210-41-5
化學名:
20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液
別名:
20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液;ポリ(スチレンスルホン酸), 30% SOLN. IN WATER;ポリ(4-スチレンスルホン酸) 溶液
英語名:
POLYSTYRENE SULFONIC ACID
英語別名:
PSSA;SULFONATED POLYSTYRENE;tolevamer;POLY(4-STYRENESULFONIC ACID);poly(4-styrenesulfonic acid) solution;PL-SO3H RESIN;Tolevamer [inn];PL-SO3H MP-RESIN;(30 wt. % in H2O);POLYMER SUPPORTED TOS-OH
CBNumber:
CB2307202
化學式:
C8H8O3S
分子量:
184.21
MOL File:
28210-41-5.mol

20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 物理性質

融點 :
1°C
沸點 :
100°C
比重(密度) :
1.11 g/mL at 25 °C
屈折率 :
n20/D 1.3718
貯蔵溫度 :
Sealed in dry,Room Temperature
溶解性:
H2O: 可溶
外見 :
液體
色:
アンバー
PH:
1.55 (25℃)
水溶解度 :
水、エタノール、メタノール、低級アルコール、グリコールと混和します。
暴露限界値:
ACGIH: TWA 0.2 mg/m3
OSHA: TWA 1 mg/m3
NIOSH: IDLH 15 mg/m3; TWA 1 mg/m3
EPAの化學物質情報:
Benzenesulfonic acid, 4-ethenyl-, homopolymer (28210-41-5)
安全性情報
  • リスクと安全性に関する聲明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
主な危険性  C
Rフレーズ  34-35
Sフレーズ  23-26-36/37/39-45
RIDADR  UN 2586 8/PG 3
WGK Germany  -
TSCA  Yes
國連危険物分類  8
絵表示(GHS) GHS hazard pictograms
注意喚起語 危険
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
H318 重篤な眼の損傷 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 1 危険 GHS hazard pictograms P280, P305+P351+P338, P310
注意書き
P260 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を著用するこ と。
P301+P330+P331 飲み込んだ場合:口をすすぐこと。無理に吐かせ ないこと。
P303+P361+P353 皮膚(または髪)に付著した場合:直ちに汚染された衣 類をすべて脫ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P405 施錠して保管すること。

20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 価格 もっと(7)

メーカー 製品番號 製品説明 CAS番號 包裝 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01ALF042653
Poly(styrene sulfonic acid), M.W. 75,000, 30% w/v aq. soln.
28210-41-5 100g ¥25400 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01ALF042653
Poly(styrene sulfonic acid), M.W. 75,000, 30% w/v aq. soln.
28210-41-5 500g ¥87800 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 561223 ポリ(4-スチレンスルホン酸) 溶液 Mw ~75,000, 18?wt. % in H2O
Poly(4-styrenesulfonic acid) solution Mw ~75,000, 18?wt. % in H2O
28210-41-5 100g ¥14300 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 561223 ポリ(4-スチレンスルホン酸) 溶液 Mw ~75,000, 18?wt. % in H2O
Poly(4-styrenesulfonic acid) solution Mw ~75,000, 18?wt. % in H2O
28210-41-5 500g ¥41900 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01POS08770 ポリ(スチレンスルホン酸), 30% soln. in water
Poly(styrenesulfonic acid), 30% soln. in water
28210-41-5 250g ¥39400 2024-03-01 購入

20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 化學特性,用途語,生産方法

外観

わずかにうすい黃色~褐色の液體

化學的特性

Soluble in: lower alcohols, glycols

使用

Polyelectrolyte. Electroconductive and antistatic resin for electrographic and electrophotographic substrates.

定義

ChEBI: A polymer composed of repeating 4-ethylbenzenesulfonic acid units.

20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液 生産企業(yè)

Global( 187)Suppliers
名前 電話番號 電子メール 國籍 製品カタログ 優(yōu)位度
Wuhan Kemi-Works Chemical Co., Ltd.
+86-2785736489 +8618171418573
sales@kemiworks.com China 728 58
Hebei Weibang Biotechnology Co., Ltd
+8615531157085
abby@weibangbio.com China 8813 58
Hebei Chuanghai Biotechnology Co,.LTD
+86-13131129325
sales1@chuanghaibio.com China 5893 58
Hebei Kingfiner Technology Development Co.Ltd
+86-15532196582 +86-15373005021
lisa@kingfinertech.com China 2990 58
Henan Fengda Chemical Co., Ltd
+86-371-86557731 +86-13613820652
info@fdachem.com China 20288 58
Hebei Zhuanglai Chemical Trading Co.,Ltd
+8613343047651
admin@zlchemi.com China 3002 58
Shandong Deshang Chemical Co., Ltd.
+86-0531-8875-2665 +8613153039501
info@deshangchem.com China 660 58
Shanghai Daken Advanced Materials Co.,Ltd
+86-371-66670886
info@dakenam.com China 18747 58
Henan Tianfu Chemical Co.,Ltd.
+86-0371-55170693 +86-19937530512
info@tianfuchem.com China 21634 55
career henan chemical co
+86-0371-86658258 +8613203830695
sales@coreychem.com China 29885 58

28210-41-5(20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液)キーワード:


  • 28210-41-5
  • MACROPOROUS POLYMER SUPPORTED SULFONIC ACID
  • 4-ethenyl-benzenesulfonicacihomopolymer
  • Benzenesulfonicacid,4-ethenyl-,homopolymer
  • STYRENESULFONIC ACID POLYMER
  • PL-SO3H MP-RESIN
  • PL-SO3H RESIN
  • POLYSTYRENE, CROSSLINKED, SULFONIC ACID, HYDROGEN ION FORM
  • POLYSTYRENE SULFONIC ACID
  • POLYMER SUPPORTED SULFONIC ACID
  • POLYMER SUPPORTED TOS-OH
  • Poly(styrene sulfonic acid) (30% in aq. solution)
  • poly(styrene sulfomic acid)
  • POLY(4-STYRENESULFONIC ACID),18 WT. % SOLU TION IN WATER
  • M.W.75,000,30%w/vAqueousSolution
  • poly(styrene sulfonic acid), m.w. 75,000
  • Poly(styrene sulfonic acid), M.W. 75,000, 30% w/v aq. soln.
  • 4-styrenesulfonic acid homopolymer
  • 25704-18-1 (Homopolymer hydrochloride salt)
  • 37286-92-3 (Homopolymer calcium salt)
  • 4-Ethenylbenzenesulfonic acid homopolymer
  • Tolevamer [inn]
  • 4-Vinylbenzenesulfonic acid homopolymer
  • Poly (4-Styrenesulfonate acid) solution
  • Polystyrene sulfonic acid(PSS)
  • Poly(4-vinylbenzenesulfonic acid)
  • Poly(4-styrenesulfonic acid) solution Mw ~75,000, 18 wt. % in H2O
  • a water solution of a sulfonated polystyrene
  • (30 wt. % in H2O)
  • poly(styrene-4-sulfonic acid)
  • Poly(4-vinylbenzenesulfonic acid)(30 wt. % in H2O)
  • 20%ポリ(P-スチレンスルホン酸)溶液
  • ポリ(スチレンスルホン酸), 30% SOLN. IN WATER
  • ポリ(4-スチレンスルホン酸) 溶液
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